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石英坩堝使用注意事項(xiàng)
新聞來源: 點(diǎn)擊數(shù):3210 更新時(shí)間:2013/5/10 9:13:46
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石英坩堝使用注意事項(xiàng):
1.石英坩堝可在1450度以下使用,分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅,發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。當(dāng)今,世界半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)達(dá)國家已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。他具有高純度、耐溫性強(qiáng)、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。
2、不能和HF接觸,高溫時(shí),極易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽作用。
3.石英坩堝適于用K2S2O7,KHSO4作熔劑熔融樣品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔劑處理樣品。
4.石英質(zhì)脆,易破,使用時(shí)要注意。
5.除HF外,普通稀無機(jī)酸可用作清洗液。國內(nèi)常用拉制單晶硅用石英坩堝18英寸和20英寸也有廠家使用22及以上的坩堝。目前國內(nèi)坩堝生產(chǎn)廠家生產(chǎn)的18和20英寸坩堝技術(shù)都比較成熟。其生產(chǎn)使用原料石英砂主要由美國進(jìn)口。國內(nèi)產(chǎn)的石英砂純度都達(dá)不到其要求。其原料里雜質(zhì)在生產(chǎn)時(shí)高溫熔制過程中產(chǎn)生黑點(diǎn)氣泡等 對拉制單晶硅時(shí)其穩(wěn)定性都有一定影響。
出處:
juxinweiye.cn
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